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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
催化燃烧废气处理设备系统特点: 1、催化燃烧采用RCO工艺净化有机废气,可同时去除多种有机污染物,具有工艺简单、设备紧凑、运行可靠等优点; 2、催化燃烧设备具有净化率高,一般均可达95%以上; 3、催化燃烧设备具有运行费用低的优点,其热回收率一般可达95%以上; 4、整个过程无废水产生,净化过程不产生二次污染; 5、催化燃烧RCO净化设备可与烘箱配套使用,净化后的气体直接回用到烘箱加热设备,达到节能减排的目的; 6、催化燃烧设有5道装置,杜绝事故发生; 7、催化燃烧蓄热系统采用加热系统分段工作,自动跟踪温度并内置蓄热装置,节能省电;
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印刷行业催化燃烧装置吸附脱附催化燃烧主要用于涂装、印刷、机电、家电、制鞋、塑料及各种化工车间里挥发或泄漏出的有害有机废气的净化及臭味的,适用于较低浓度的、不宜采用直接燃烧或催化燃烧和吸附回收处理的有机废气,尤其对大风量的处理场合,均可获得满意的经济效益和社会效益。 印刷行业催化燃烧装置在燃烧室中,有机废气再由燃烧器加热燃烧,加热升温至设定的氧化温度,此时温度同样为设定的800℃,使有机物被分解成二氧化碳和水。由蓄热室排出。在此同时,由废气引风机抽出少许前一循环残留在蓄热室中的微量有机气体,再送至燃烧室中进行焚烧,此部分气体同处理后气体一起离开蓄热室,经热回收设备排入大气。
原理:将有臭味地气体通过烟囱排至大气,或用无臭空气稀释,降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围:适用于处理中、低浓度的有组织排放的恶臭气体。优点:费用低、设备简单。缺点:易受气象条件限制,恶臭物质依然存在,利用臭气中某些物质易溶于水的特性,使臭气成分直接与水接触,从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围:水溶性、有组织排放源的恶臭气体。 优点:工艺简单,管理方便,设备运转费用低 产生二次污染,需对洗涤液进行处理。缺点:净化效率低,应与其他技术联合使用,对硫醇,脂肪酸等处理效果差,将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中,通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。优点:活性污泥经过驯化后,对不超过极限负荷量的恶臭成分,去除率可达99.5%以上。
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